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東莞市鼎偉新材料有限公司專業生產:鎳釩合金靶、高純鉻靶、鈦鋁靶、鉻鋁靶、鎳鉻合金靶、鎢鈦合金靶材等;公司先后研發的蒸發材料、濺射靶材系列產品廣泛應用到國內外眾多知名電子、太陽能企業當中,以較高的性價比,成功發替代了國外進口產品,頗受用戶好評。

ITO靶材主要難點

時間:2022-09-18瀏覽數:983

(一)粉末制備

粉末冶金較核心的競爭力就是粉體,能夠獨立生產高品質穩定的粉體的公司,會在未來占有一席之地。

(二)大尺寸燒結工藝

ITO靶材的另一個難點就是燒結工藝,精準的燒結工藝是燒結高品質靶材的關鍵。燒結工藝細分為真空熱壓法、熱等靜壓法、常壓燒結法。目前高端顯示器用鍍膜靶材主要采用常壓燒結法,性價比高。

(三)成本投入較大

ITO生產中需要使用非常多的大型設備,如冷壓機,大型模壓機,燒結爐,加工設備及綁定設備,每一項的投入都非常大。整廠的設備投入預計在5000萬以上(年產50噸),且因為是能耗大戶,日常的能源消耗也是非常可觀的,運營維護成本也比較高。

(四)產品的驗證

如何能夠自主的驗證產品是否符合客戶的使用需求,是產品能否一次通過客戶驗證并且順利導入生產的關鍵因素,所以企業自己配套綁定檢測設備及鍍膜機就是保證。


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